उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
ब्रांड नाम:
Ruideer
मॉडल संख्या:
630,530,430
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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 कोटिंग्स रासायनिक वाष्प जमा CVD भट्ठी
1. मुख्य तकनीकी मापदंड
3.1- छोटा फ्लोर स्पेस और उचित लेआउट
3.2उच्च स्तर का स्वचालन।
3.3सहायक उपकरण जैसे कि कूबड़ गैस बेअसर करने वाला उपकरण, टाइटेनियम टेट्राक्लोराइड भरने वाला उपकरण, गैस बसबार आदि प्रदान किए जा सकते हैं।
3.4प्रक्रिया नियंत्रण प्रणाली नई प्रक्रियाओं के स्वतंत्र अनुसंधान एवं विकास के लिए अनुकूल है।
4.सीवीडी ग्राफ़िट नाव
विभिन्न प्रकार की ग्रेफाइट नौकाएं उपलब्ध कराई जा सकती हैं।
5.सीवीडी प्रतिक्रिया कक्ष
सीवीडी प्रतिक्रिया कक्ष उच्च तापमान मिश्र धातु के साथ केन्द्रापसारक रूप से डाले जाते हैं, जो विरूपण को काफी कम कर सकते हैं और जीवनकाल को बढ़ाकर 200 भट्टियों तक कर सकते हैं।
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