सीवीडी कोटिंग मशीन कारखाना, सीवीडी कोटिंग मशीन उत्पादों चीन से

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सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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पूर्ववर्ती और प्रक्रिया गैसों TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S के साथ उच्च तापमान कोटिंग प्रक्रिया उपकरण

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TICL4 、 ALCL3 、 CH3CN 、 H2 、 N2 、 AR 、 CH4 、 CO 2 CO2 、 HCl 、 H2S

कोटिंग सब्सट्रेट: धातु, सिरेमिक, कांच, आदि।

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अनुकूलन योग्य 900-1050C रासायनिक वाष्प एल्यूमिनाइज़िंग फर्नेस Hf Zr और Si कोडपोजिशन के साथ

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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AICL3 पूर्ववर्ती 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर काटने के औजारों के लिए रासायनिक वाष्प अवशोषण भट्ठी

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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रोल सीलिंग व्हील सीवीडी कोटिंग फर्नेस के साथ सीओ पूर्ववर्ती और दूसरे चरण गैस वितरक

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अनुकूलित सीवीडी लैब वैक्यूम फर्नेस रासायनिक वाष्प अवशेष सीवीडी कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अनुकूलन योग्य TiC/TiN/TiCN/Al2O3 कोटिंग सीवीडी फर्नेस 700-1050C प्रक्रिया तापमान के साथ

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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तापमान मिश्र धातु कोटिंग कक्ष विद्युत प्रतिरोध हीटिंग CVD फर्नेस अनुकूलन योग्य आकार धातु या सिरेमिक सब्सट्रेट के लिए

लेप विधि: रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)

कुल शक्ति: लगभग 40/50/60/80kW

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उच्च तापमान मिश्र धातु कोटिंग कक्ष रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग मशीन वोल्फ्जम कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TICL4 、 ALCL3 、 CH3CN 、 H2 、 N2 、 AR 、 CH4 、 CO 2 CO2 、 HCl 、 H2S

कोटिंग उपकरण का आकार: अनुकूलन योग्य

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1000°C तक के उच्च तापमान कोटिंग के लिए विद्युत प्रतिरोध हीटिंग सीवीडी कोटिंग मशीन चीनी और टर्न-की परियोजना

कुल शक्ति: लगभग 40/50/60/80kW

कोटिंग सब्सट्रेट: धातु, सिरेमिक, कांच, आदि।

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सिरेमिक सब्सट्रेट के लिए उन्नत सीवीडी कोटिंग मशीन मजबूत कोटिंग आसंजन कुल शक्ति लगभग 40/50/60/80KW

कोटिंग सब्सट्रेट: धातु, सिरेमिक, कांच, आदि।

कोटिंग आसंजन: बलवान

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ऊर्ध्वाधर बड़े पायरोलिटिक कार्बन CVI भट्ठी अधिकतम 1300C के कामकाजी तापमान के साथ शीर्ष/नीचे भार

अधिकतम कार्य तापमान (℃): 1300

तापमान एकरूपता(℃): ≤±7

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एचटीसीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड सीवीडी एसआईसी एपिटेक्सी ग्रोथ फर्नेस मल्टीपल टेम्परेचर कंट्रोल ज़ोन

प्रभावी स्थान (मिमी): 1000*1000*1500

तापन शक्ति (केवीए): 300

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सीवीडी कोटिंग मशीन

सिंटर एचआईपी फर्नेस

गैस का दबाव सिंटरिंग फर्नेस

वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

एमआईएम सिंटरिंग फर्नेस

धातु सिंटरिंग फर्नेस

औद्योगिक वैक्यूम भट्ठी

उच्च तापमान वैक्यूम भट्ठी

वैक्यूम हीट ट्रीटमेंट फर्नेस

सिरेमिक सिंटरिंग फर्नेस

उच्च वैक्यूम भट्ठी

Sintering Furnace Accessoriesfunction gtElInit() {var lib = new google.translate.TranslateService();

सिलिकॉन कार्बाइड फर्नेस