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अच्छी कीमत सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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अच्छी कीमत अनुकूलित सीवीडी लैब वैक्यूम फर्नेस रासायनिक वाष्प अवशेष सीवीडी कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

अनुकूलित सीवीडी लैब वैक्यूम फर्नेस रासायनिक वाष्प अवशेष सीवीडी कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर ऑनलाइन वीडियो

उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत अनुकूलन योग्य TiC/TiN/TiCN/Al2O3 कोटिंग सीवीडी फर्नेस 700-1050C प्रक्रिया तापमान के साथ ऑनलाइन वीडियो

अनुकूलन योग्य TiC/TiN/TiCN/Al2O3 कोटिंग सीवीडी फर्नेस 700-1050C प्रक्रिया तापमान के साथ

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत पूर्ववर्ती और प्रक्रिया गैसों TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S के साथ उच्च तापमान कोटिंग प्रक्रिया उपकरण ऑनलाइन वीडियो

पूर्ववर्ती और प्रक्रिया गैसों TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S के साथ उच्च तापमान कोटिंग प्रक्रिया उपकरण

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TICL4 、 ALCL3 、 CH3CN 、 H2 、 N2 、 AR 、 CH4 、 CO 2 CO2 、 HCl 、 H2S

कोटिंग सब्सट्रेट: धातु, सिरेमिक, कांच, आदि।

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अच्छी कीमत AICL3 पूर्ववर्ती 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर काटने के औजारों के लिए रासायनिक वाष्प अवशोषण भट्ठी ऑनलाइन वीडियो

AICL3 पूर्ववर्ती 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर काटने के औजारों के लिए रासायनिक वाष्प अवशोषण भट्ठी

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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अच्छी कीमत TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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अच्छी कीमत रोल सीलिंग व्हील सीवीडी कोटिंग फर्नेस के साथ सीओ पूर्ववर्ती और दूसरे चरण गैस वितरक ऑनलाइन वीडियो

रोल सीलिंग व्हील सीवीडी कोटिंग फर्नेस के साथ सीओ पूर्ववर्ती और दूसरे चरण गैस वितरक

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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अच्छी कीमत 700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र ऑनलाइन वीडियो

700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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अच्छी कीमत हमारे उन्नत सिंटर HIP फर्नेस के साथ बेहतर सीमेंटेड कार्बाइड उपकरण प्राप्त करें​ ऑनलाइन वीडियो

हमारे उन्नत सिंटर HIP फर्नेस के साथ बेहतर सीमेंटेड कार्बाइड उपकरण प्राप्त करें​

अधिकतम। कार्य -तापमान: 1600 ℃

अधिकतम -कार्य दबाव: 1,2,6,10,20mpa

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अच्छी कीमत वैक्यूम फर्नेस टाइप प्रेशर सिंटरिंग फर्नेस उन्नत सिंटरिंग के लिए ग्रे पेंट कलर में ऑनलाइन वीडियो

वैक्यूम फर्नेस टाइप प्रेशर सिंटरिंग फर्नेस उन्नत सिंटरिंग के लिए ग्रे पेंट कलर में

सेवा जीवन: 20 वर्ष/6000 भट्ठी चक्र

पेंट का रंग: काला, नीला, ग्रे, सफेद आदि

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