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cooling water system (296)  ऑनलाइन निर्माता

अच्छी कीमत अनुकूलित सीवीडी लैब वैक्यूम फर्नेस रासायनिक वाष्प अवशेष सीवीडी कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

अनुकूलित सीवीडी लैब वैक्यूम फर्नेस रासायनिक वाष्प अवशेष सीवीडी कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर ऑनलाइन वीडियो

उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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चीनी कारखाने आईएसओ सीई प्रमाण पत्र वैक्यूम दबाव रहित भट्ठी अधिकतम कार्य तापमान 2500C तापमान के साथ

अधिकतम कार्य तापमान: 2500 ℃

तापमान एकरूपता: ≤±5℃

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अच्छी कीमत 1500C सीवीडी एसआईसी सिलिकॉन कार्बाइड वृद्धि के लिए Epitaxy वृद्धि भट्ठी 1000 * 1000 * 1500 मिमी प्रभावी अंतरिक्ष में ऑनलाइन वीडियो

1500C सीवीडी एसआईसी सिलिकॉन कार्बाइड वृद्धि के लिए Epitaxy वृद्धि भट्ठी 1000 * 1000 * 1500 मिमी प्रभावी अंतरिक्ष में

प्रभावी स्थान (मिमी): 1000*1000*1500

तापन शक्ति (केवीए): 300

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अच्छी कीमत परिशुद्धता 1800C सिलिकॉन कार्बाइड प्रतिक्रिया सेंटरिंग फर्नेस ≤±5C तापमान एकरूपता के साथ ऑनलाइन वीडियो

परिशुद्धता 1800C सिलिकॉन कार्बाइड प्रतिक्रिया सेंटरिंग फर्नेस ≤±5C तापमान एकरूपता के साथ

अधिकतम कार्य तापमान: 1800 ℃

तापमान एकरूपता: ≤±5℃

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अच्छी कीमत Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity ऑनलाइन वीडियो

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

अधिकतम कार्य तापमान: 1800 ℃

तापमान एकरूपता: ± ± 5 ℃

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अच्छी कीमत सिलिकॉन कार्बाइड/नाइट्राइड के लिए उच्च तापमान नियंत्रण गैस दबाव सिंटरिंग फर्नेस निर्माता ऑनलाइन वीडियो

सिलिकॉन कार्बाइड/नाइट्राइड के लिए उच्च तापमान नियंत्रण गैस दबाव सिंटरिंग फर्नेस निर्माता

पैकेजिंग विवरण: लकड़ी की पेटियां

प्रसव के समय: 4-5 महीने

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उच्च स्वचालन सिलिकॉन कार्बाइड फर्नेस, औद्योगिक वैक्यूम फर्नेस हीटिंग पावर 320 केवीए

नाम: उच्च वैक्यूम फर्नेस

अधिकतम तापमान: 1800℃

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5-20um रसायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग मशीन कोटिंग तापमान 200-1050°C के साथ

कोटिंग प्रकार: सीवीडी

परत की मोटाई: 5-20um

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अच्छी कीमत बहुक्रियाशील 1MPA गैस दबाव आवधिक हीटिंग वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस चीन हिप फर्नेस निर्माता ऑनलाइन वीडियो

बहुक्रियाशील 1MPA गैस दबाव आवधिक हीटिंग वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस चीन हिप फर्नेस निर्माता

उपयोग योग्य स्थान: 300*300*1000मिमी;400*400*1200मिमी;500*500*1800मिमी

हीटिंग जोन: 2/3 क्षेत्र

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अधिकतम 2000 किग्रा के साथ AC380V/50Hz वैक्यूम कम्प्रेशन फर्नेस। वजन लोड हो रहा है

चैंबर का आकार: स्वनिर्धारित

प्रोडक्ट का नाम: गैस प्रेशर सिंटरिंग फर्नेस

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3 जोन तापमान नियंत्रण 320KVA उच्च तापमान वैक्यूम भट्टियां

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

आयाम: 400 * 400 * 1600

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सिसिली कार्बाइड के लिए उच्च तापमान 320KVA वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

आयाम: 500 मिमी * 500 मिमी * 1800 मिमी

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ऊर्जा की बचत उच्च तापमान वैक्यूम फर्नेस कम ऊर्जा की खपत छोटे व्यवसाय क्षेत्र

नाम: उच्च तापमान वैक्यूम भट्ठी

लाभ: ऊर्जा की बचत और पर्यावरण की रक्षा

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