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vacuum furnace systems (366)  ऑनलाइन निर्माता

इंटीग्रेटेड टाइप वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस मल्टी एटमॉस्फियर कंट्रोल

प्रकार: वैक्यूम सिंटरिंग भट्टी

सुरक्षात्मक गैस: Ar, एन 2

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वायरलेस रिमोट ऑपरेशन के साथ सिंगल फेज सिरेमिक वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

प्रकार: वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

गैस पेश करने की अनुमति दें: Ar、N2、H2、CH4

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स्वचालित नियंत्रण वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस आवधिक ताप वैक्यूम रिसाव दर 3Pa / H

नाम: वैक्यूम सिंटरिंग भट्टी

आयाम: स्वनिर्धारित

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मल्टीपल ताप इकाइयों के साथ सिंगल चैंबर वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस हीटिंग

नाम: वैक्यूम सिंटरिंग भट्टी

वैक्यूम पंप: बैकिंग पंप, रूट्स-टाइप पंप

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तापमान मापने के लिए सटीक पाइरोमीटर के साथ 2200 सेल्सियस उच्च तापमान वैक्यूम फर्नेस

तापमान की रेंज: 1800℃-2200℃-

सुरक्षा संरक्षण: अधिक तापमान संरक्षण

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Vacuum Sintering Furnace

नाम: वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

पैकेजिंग विवरण: विशेष लकड़ी के मामले पैकिंग

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सीमेंट कार्बाइड 100KPa के लिए कॉम्पैक्ट संरचना वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

प्रकार: वैक्यूम सिंटरिंग भट्टी

सुरक्षात्मक गैस: Ar, एन 2

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सीमेंटेड कार्बाइड / प्रेसिजन सिरेमिक / स्टेनलेस स्टील के लिए टिकाऊ वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

नाम: वैक्यूम सिंटरिंग भट्टी

फ़ीचर: उच्च स्वचालित, बहुत सुरक्षित

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साइट ट्रायल बर्निंग सर्विस पर पूरी तरह से स्वचालित वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

प्रकार: वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

गैस पेश करने की अनुमति दें: Ar、N2、H2、CH4

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औद्योगिक उच्च वैक्यूम सिंटिंजर फर्नेस / क्षैतिज वैक्यूम फर्नेस

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

आयाम: स्वनिर्धारित

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High temperature vacuum furnace(for cemented carbide&precision ceramic)

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

आयाम: स्वनिर्धारित

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320KVA सीमेंस पीएलसी नियंत्रण उच्च तापमान वैक्यूम भट्ठी

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

आयाम: स्वनिर्धारित

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58bar सिंगल चैंबर क्षैतिज वैक्यूम फर्नेस

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

प्रभावी ताप क्षेत्र: 300 * 300 * 900 मिमी

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Programed High Vacuum Furnace With Resume - Heat - St - Breakpoint Function

समारोह: रिज्यूमे - हीट - सेंट - ब्रेकपॉइंट फंक्शन

आयाम: स्वनिर्धारित

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सिंटरिंग कार्बाइड के लिए 80 किलो लोड उच्च तापमान वैक्यूम फर्नेस

संरचना: एकल कक्ष, क्षितिज प्रकार

गर्म करने के तत्व: सीसा

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अनुकूलित सीवीडी लैब वैक्यूम फर्नेस रासायनिक वाष्प अवशेष सीवीडी कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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