high temperature coating process equipment (47) ऑनलाइन निर्माता
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प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050
पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S
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प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050
पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S
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प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050
कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050
पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S
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Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
पैकेजिंग विवरण: लकड़ी की पेटियां
प्रसव के समय: 5-6 महीने
रिएक्टर: 2 पीसी
अधिकतम तापमान:: 1100 ℃
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प्रभावी स्थान (मिमी): 1000*1000*1500
तापन शक्ति (केवीए): 300
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प्रभावी स्थान (मिमी): 1000*1000*1500
तापन शक्ति (केवीए): 300
Workingspace: 12-1000L
Max.workingpressuremax.workingpressure (MPA): 1226、10、20
नाम: औद्योगिक वैक्यूम भट्ठी
विशेष विवरण: RDE-GWL-5518
प्रतिक्रिया कक्ष: 2 पीसी
अधिकतम तापमान:: 1100 ℃
प्रतिक्रिया कक्ष: 2 पीसी
अधिकतम तापमान:: 1100 ℃
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लेप विधि: रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)
कुल शक्ति: लगभग 40/50/60/80kW
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प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050
कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050
कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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