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high vacuum furnace (517)  ऑनलाइन निर्माता

आसान रखरखाव धातु इंजेक्शन मोल्डिंग फर्नेस कूलिंग अवधि /5h / /6h / h8h

नाम: धातु इंजेक्शन मोल्डिंग भट्ठी

Max. मैक्स। working Temp काम अस्थायी: 1550 ℃

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रिमोट नियंत्रित धातु सिंटरिंग फर्नेस धातु थर्मोस्टेट आंतरिक पैकिंग प्लेटफॉर्म के साथ

नाम: धातु सिंटरिंग फर्नेस

विशेष विवरण: RDE-DYL-4545150, RDE-DYL-5518

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स्वचालित नियंत्रण धातु सिंटरिंग फर्नेस विद्युत आपूर्ति AC380V 50 10% 50HZ

नाम: धातु सिंटरिंग फर्नेस

लाभ: विश्वसनीय, टिकाऊ, टिकाऊ

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अच्छी कीमत 1100C अधिकतम तापमान सीमा के साथ उच्च तापमान वैक्यूम वाष्प जमाव भट्ठी ऑनलाइन वीडियो

1100C अधिकतम तापमान सीमा के साथ उच्च तापमान वैक्यूम वाष्प जमाव भट्ठी

रिएक्टर: 2pcs

अधिकतम तापमान:: 1100 ℃

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अच्छी कीमत अनुकूलन योग्य TiC/TiN/TiCN/Al2O3 कोटिंग सीवीडी फर्नेस 700-1050C प्रक्रिया तापमान के साथ ऑनलाइन वीडियो

अनुकूलन योग्य TiC/TiN/TiCN/Al2O3 कोटिंग सीवीडी फर्नेस 700-1050C प्रक्रिया तापमान के साथ

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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उच्च स्वचालित एमआईएम सिंटरिंग फर्नेस कूलिंग अवधि 300-420min / 480min

नाम: एमआईएम सिंटरिंग फर्नेस

रंग: सफेद

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अच्छी कीमत 6MPA डिवाक्सिंग प्रेशर सिंटरिंग फर्नेस फॉर सेर्मेट्स नॉन-सेर्मेट्स प्राइसोन सेरेमिक सेमीकंडक्टर सिलिकॉन नाइट्राइड ऑनलाइन वीडियो

6MPA डिवाक्सिंग प्रेशर सिंटरिंग फर्नेस फॉर सेर्मेट्स नॉन-सेर्मेट्स प्राइसोन सेरेमिक सेमीकंडक्टर सिलिकॉन नाइट्राइड

तापमान: 1550℃-2200℃

अधिकतम.चार्ज लोड: 500 किलोग्राम/1200 किलोग्राम/1500 किलोग्राम/2500 किलोग्राम

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सिलिकॉन कार्बाइड सीवीडी कोटिंग फर्नेस ग्राफाइट ससेप्टर या एटिंग रिंग के लिए

पैकेजिंग विवरण: लकड़ी की पेटियां

प्रसव के समय: 5-6 महीने

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अच्छी कीमत 1500C सीवीडी एसआईसी सिलिकॉन कार्बाइड वृद्धि के लिए Epitaxy वृद्धि भट्ठी 1000 * 1000 * 1500 मिमी प्रभावी अंतरिक्ष में ऑनलाइन वीडियो

1500C सीवीडी एसआईसी सिलिकॉन कार्बाइड वृद्धि के लिए Epitaxy वृद्धि भट्ठी 1000 * 1000 * 1500 मिमी प्रभावी अंतरिक्ष में

प्रभावी स्थान (मिमी): 1000*1000*1500

तापन शक्ति (केवीए): 300

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MT-सीवीडी एचटी-सीवीडी कोटिंग फर्नेस महान कोटिंग गुणवत्ता और अनुकूलन योग्य रिएक्टर के साथ

कोटिंग तापमान: 200-1050°C

शीतलन प्रणाली: उच्च प्रदर्शन वाले वाटर-कूल्ड कंडेनसेट ट्रैप के 2 सेट

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अच्छी कीमत उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर ऑनलाइन वीडियो

उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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अच्छी कीमत 700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र ऑनलाइन वीडियो

700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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