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customizable vacuum furnace (208)  ऑनलाइन निर्माता

उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ एमआईएम स्टेनलेस स्टील के लिए वैक्यूम सिंटरिंग फर्नेस

सामग्री: स्टेनलेस स्टील / कार्बन स्टील

रंग: सफेद, ग्रे, काला, नीला

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एसयूएस सामग्री हीट ट्रीटमेंट के लिए ऑक्सालिक एसिड डीबाइंडिंग एमआईएम सिंटरिंग फर्नेस

भट्ठी का खोल: कार्बन / स्टेनलेस स्टील

रंग: अनुकूलन

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अच्छी कीमत कार्बन सामग्री के लिए औद्योगिक वैक्यूम ग्राफ़िटाइजेशन फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

कार्बन सामग्री के लिए औद्योगिक वैक्यूम ग्राफ़िटाइजेशन फर्नेस

अधिकतम। कार्यकारी तापमान): 2500

परम निर्वात (पा): 1

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अच्छी कीमत तापमान मिश्र धातु कोटिंग कक्ष विद्युत प्रतिरोध हीटिंग CVD फर्नेस अनुकूलन योग्य आकार धातु या सिरेमिक सब्सट्रेट के लिए ऑनलाइन वीडियो

तापमान मिश्र धातु कोटिंग कक्ष विद्युत प्रतिरोध हीटिंग CVD फर्नेस अनुकूलन योग्य आकार धातु या सिरेमिक सब्सट्रेट के लिए

लेप विधि: रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)

कुल शक्ति: लगभग 40/50/60/80kW

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अच्छी कीमत 1100C अधिकतम तापमान सीमा के साथ उच्च तापमान वैक्यूम वाष्प जमाव भट्ठी ऑनलाइन वीडियो

1100C अधिकतम तापमान सीमा के साथ उच्च तापमान वैक्यूम वाष्प जमाव भट्ठी

रिएक्टर: 2pcs

अधिकतम तापमान:: 1100 ℃

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अच्छी कीमत सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

सीमेंट/टंगस्टन कार्बाइड काटने के उपकरण के लिए रासायनिक वाष्प अवशेष कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ एसयूएस सामग्री के लिए कम शोर एमआईएम सिंटरिंग फर्नेस

टाइप: एमआईएम पार्ट्स, सिंटरिंग फर्नेस

प्रयोग: सिंटरिंग फर्नेस, हीट ट्रीटमेंट फर्नेस

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अच्छी कीमत उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर ऑनलाइन वीडियो

उन्नत सीवीडी/सीवीआई वाष्प अवशोषण भट्ठी TiC TiN TiCN a-AL2O3 और K-AI2O3 कोटिंग के लिए 700-1050C प्रक्रिया तापमान पर

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

कोटिंग के प्रकार: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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अच्छी कीमत TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस ऑनलाइन वीडियो

TiCL4,AICL3 के अग्रदूतों और प्रक्रिया गैसों के साथ रासायनिक वाष्प जमाव कोटिंग फर्नेस

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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अच्छी कीमत 700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र ऑनलाइन वीडियो

700-1050C प्रक्रिया तापमान के लिए हनीकॉम्ब सिरेमिक सीवीडी कोटिंग फर्नेस और वैकल्पिक ऑफ गैस न्यूट्रलाइज़र

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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ग्रेफाइट सामग्री के लिए उच्च तापमान औद्योगिक शुद्धिकरण भट्ठी

अधिकतम कार्य तापमान: 2400 ℃

तापमान एकरूपता: ≤±10℃

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अच्छी कीमत रोल सीलिंग व्हील सीवीडी कोटिंग फर्नेस के साथ सीओ पूर्ववर्ती और दूसरे चरण गैस वितरक ऑनलाइन वीडियो

रोल सीलिंग व्हील सीवीडी कोटिंग फर्नेस के साथ सीओ पूर्ववर्ती और दूसरे चरण गैस वितरक

प्रक्रिया तापमान((℃): 700-1050

पूर्वगामी और प्रक्रिया गैसें: TiCL4, AICL3, CH3CN, H2, N2, Ar, CH, CO, CO2, HCI, H2S

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